Électronique
Flux à base d'alcool et d'eau

EO-F-002/OVAP (multiflux)

Méthode d'application recommandée

Fluxage par pulvérisation, brasage sélectif, manuel et au trempé

Flux No Clean pour les procédés de brasage à la vague et de brasage sélectif
Complexe de résine d'acide di-carboxylique, activateurs sans halogène (conforme à la directive WEEE/RoHS)
Type ISO 9454 : 2231 (2.2.3.A) \ DIN-EN 61190-1-1 (selon J-STD-004) (IEC ORL0)

N° de cat. 6463
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Données techniques

Apparence :Liquide clair incolore à jaune clair
Matières dangereuses :Oui
COV :74,8 %
Teneur en matières solides :2,7 % en poids
Indice d'acidité :21 - 24 mg KOH/g
Sans halogène :Oui
Contient de la résine :Oui
Densité 20 °C0,84 - 0,86 g/ml
Activateurs/résine :Complexe acide di-carboxylique-résine, activateurs sans halogène
Du solvant :Formulation à partir d'alcools et de composés esters
Disponible sous forme de concentré :Non
Point d'éclair :12 °C
Durée de conservation minimale :12 mois

Description

Le flux EO-F-002/OVAP, à base d'alcool et d'eau, a été développé pour les processus de brasage à la vague, sélectif, au trempé et manuel ainsi que pour la confection de câbles. L'application peut se faire par tous les procédés d'application habituels (à l'exception du fluxage de mousse). La teneur en matières solides est de 2,7 % en poids.
La pratique a montré qu'en cas d'utilisation correcte, le lavage des circuits imprimés brasés avec ce flux n'est en grande partie pas nécessaire. En règle générale, le test sous pointes des CI n'est pas affecté.

Valeur ajoutée pour le client

  • Très large spectre d'utilisation (multiflux)
  • Très bonnes propriétés de brassage (pénétration, mouillage)
  • Large fenêtre de processus (stabilité thermique élevée, bonne activité sur un large intervalle)
  • Très bon comportement aux résidus (optiquement très propre, SIR élevé)

Conditionnement

Bidon : 5 l, 10 l, 20 l
Informations sur le produit : EO-F-002/OVAP (multiflux)