Etimol SUC 63 RSN

Beschreibung

Anwendungshinweise:
Das lösemittelbasierende, pH-neutrale Reinigungsmedium entfernt effizient Rückstände bleihaltiger, bleifreier oder sogenannter No-Clean Lotpasten sowie von SMT-Klebstoffen von der Schablonenunterseite. Nach dem Druckvorgang benetzt Etimol SUC 63 RSN sowohl die Reinigungsrolle bzw. das Reinigungsflies sowie die Schablonenseite optimal, so dass gleichbleibend hohe und qualitativ reproduzierbare Reinigungsergebisse erzielt werden. Die geruchsmilde Formulierung vereint gute Reinigungseigenschaften mit geringem Geruch und optimalen Trocknungseigenschaften, hierdurch wird das Verschmieren von Lotpastenanteilen auf der Schablonenunterseite deutlich minimiert.

Das Reinigungsmedium wird bei Raumtemperatur je nach Druckermodell und Hersteller entweder direkt in den Vorratstank des Schablonendruckers unverdünnt eingefüllt oder direkt aus dem Liefergebinde angesaugt.

Hinweis:
Freigaben der Maschinenhersteller beachten!

Kundenmehrwert:
Entfernt zuverlässig Lotpasten- und SMT-Klebstoffrückstände von der Schablonenunterseite zur Sicherstellung optimaler Druckergebnisse. Die innovative Formulierung verbindet effiziente Reinigung, höchste Prozesssicherheit und optimale Arbeitssicherheit durch den Ersatz brennbarer und entzündlicher Lösemittel. Auch in geeigneten Waschanlagen einsetzbar.